将用「电磁场」代替「雷射」作为激发和约束等离子体的手段，进而获得微弱的、波长为13.5纳米的极深紫外光。

时间一分一秒地过去。

主监控屏上，一个原本平坦的基线，微微跳动了一下。

随后，一个虽然微弱但清晰可辨的信号峰值，顽强地升了起来！

「有信号了！」一名年轻的研究员忍不住地喊了出来，声音因激动而变得有些失真。

大家心里清楚！

第一台EUV光刻机对华国的重大战略意义！

几乎在同一时间，位于光路末端的EUV功率探测器，传回了第一条数据：107瓦！

一个在ASML看来早已被甩在身后的数字，此刻却让整个控制室陷入了短暂的寂静，随即爆发出巨大的欢呼声！

许多人下意识地拥抱在一起，眼眶瞬间红了。

林南感觉自己的手都在微微颤抖，于是紧紧抓住栏杆，强迫自己冷静下来。

陈延森倒是心态平稳，他擡手压了压，控制室里的欢呼声很快平息。

「提高功率档位！」陈延森继续说道。

EUV光刻机的功率直接决定单位时间内的晶圆处理数量，每一次曝光都需足够的EUV光能量触发光刻胶的光化学反应。

若光源功率低，需延长单次曝光时间或增加脉冲次数，才能满足能量需求，导致单晶圆处理时间变长。

比如200W功率的机型每小时可处理约125片晶圆，而250W机型可提升至每小时170片，产能提升近40%。

技术差一点，就是差了一大截！

而且功率越高，单位晶圆的光刻成本就越低，规模化优势就越强。

闻言，林南立刻收敛心神，右手在控制台上快速滑动，目光紧盯着功率调节界面：「收到！当前目标档位220瓦，升压速率已调至安全阈值，避免等离子体不稳定。」

控制台屏幕上，代表光源功率的数字开始缓慢爬升，每一个数值的跳动，控制室内的呼吸声就跟着沉重一分。

137瓦、168瓦、214瓦……

当数字稳稳停在220瓦时，林南立即看向一旁的光源稳定性监测曲线。

那条代表等离子体约束状态的绿色线条，始终保持着平稳的波动，没有出现任何异常的尖峰或骤降。

系统运行稳定！

「功率稳定在220瓦！等离子体约束状态良好，没有出现