送到了全球光刻机新贵——阿斯麦(ASML)的总部会议室桌上。
会议室里烟雾缭绕,但气氛却热烈得仿佛要燃烧起来。
ASML的现任CEO埃里克手里攥着那份订单。将订单高高举起,声音颤抖地吼道:
“先生们!上帝没有抛弃我们!上帝在废墟里给我们送来了金子!”
这是一份足以改变半导体历史的订单:
“台积电急需订购20台最新的干式光刻机(XT:1250),以及——预定10台我们正在研发中的浸没式(Immersion)光刻机原型机。首付款30亿美金,即刻到账!要求:不惜一切代价,插队发货,优先供应!”
(历史上第一个侵没式光刻机订单是2004年12月才出现的。)
“三十亿美金……”首席财务官看着那个数字,甚至觉得有些眩晕,“这相当于我们过去三年的利润总和。有了这笔钱,我们就可以彻底压死尼康和佳能!”
此时的ASML虽然已经崭露头角,但在干式光刻机领域,依然面临着日本尼康的死缠烂打。如果不能在技术上实现代差级的跨越,胜负犹未可知。
而这个跨越的关键,就是——浸没式光刻技术。
首席技术官(CTO)马丁·范·登·布林克(Martin)坐在角落里,脸上带着傲气与疲惫交织的笑容。
“告诉张忠谋,没问题。”马丁自信地弹了弹烟灰,“我们的‘浸没式系统’原型机已经在实验室连续运行了400个小时。虽然还有些小瑕疵,但核心难题——‘流体控制’,我们已经攻克了。”
这才是ASML狂欢的真正原因。
在过去的两年里,ASML集结了全欧洲最顶尖的大脑,终于把台积电林本坚提出的那个疯狂理论变成了现实。
他们设计出了一套精妙绝伦的“水幕系统”:利用空气帘和负压抽吸,将超纯水完美地束缚在镜头和硅片之间那几毫米的缝隙里,既不飞溅,也不产生气泡。
这简直是物理学上的奇迹!
“这是我们的杀手锏。”马丁站起身,走到白板前,重重地画了一个圈,“尼康还在傻乎乎地搞干式微缩,而我们,已经掌握了让光在水中行走的魔法。只要这台机器一上市,193纳米的光源就能等效做到134纳米!我们将统治未来的十年!”
“开香槟!”埃里克大手一挥,“为了台积电的灾难(尽管这很不幸),也为了ASML的辉煌!今晚,整个

