一技术的制造成本更高。

所以从芯片的制造成本来看，尤其是使用duv浸润式光刻机的情况下，采用双重曝光技术，生产14纳米工艺的芯片才是最划算的，这也包括智云12纳米工艺，毕竟智云的十二纳米工艺其实就是他们自己的第二代十四纳米工艺。

使用十纳米工艺的话，虽然芯片性能提升了一些，但是成本提升了很多，如果不是s系列手机这种奔着极限去，各种追求领先的产品，其实都没必要采用智云等效十纳米工艺的芯片。

这也是智云半导体的一大堆各种芯片设计里，基本都是围绕着十四纳米工艺以及十二纳米工艺展开的缘故。

至于十纳米工艺的芯片，目前就只有两种，一种是s系列手机使用的s806芯片，另外一种则是用于各种车辆以及无人机平台的算力芯片eyq4。

其他的，包括ai训练芯片，暂时都不会采用这个十纳米工艺……划不来。

目前乃至未来两年内，智云集团这边新生产或设计的ai训练芯片，包括自用的ai系列，都会采用第二代十四纳米工艺，也就是智云宣传的十二纳米工艺制造。

其他各类芯片，电脑cpu，服务器cpu，各类显卡等等也将会采用十二纳米工艺制造。

同时还有一大堆已经设计生产的芯片用的是第一代十四纳米工艺。

至于十八纳米工艺的一些产品，则是已经陆续停产，该工艺也是属于过度工艺，性价比太低了。

未来好几年内，智云集团的各类芯片，不管自用还是外销，都会采用十四纳米工艺为主，当然，这个十四纳米工艺可能会有很多种，包括第一代十四纳米工艺，第二代十四纳米工艺（十二纳米），然后还有其他的一些变种工艺，以满足不同类型的芯片的需求。

至于更先进，但是性价比太低的十纳米工艺，注定只是个过渡工艺。

智云集团的一些先进芯片，如ai训练芯片，手机soc芯片，机载算力卡这些对工艺要求高，对算力要求高的芯片，则是都把目光面瞄向了更好的等效七纳米工艺……虽然那玩意的成本会更高，但是带来的性能提升也足够大，所以咬咬牙也能用。

这就是没有euv光刻机的尴尬了。

如果有euv光刻机的话，等效七纳米芯片的成本就能拉下来，同样的，等效十纳米工艺其实用euv光刻机来生产也更方便，成本更低。

可惜，智云集团一时半会还得不到euv光刻机。