刻机的前置技术。

大量的子系统都是通用的，或者是改进后就能用的。

这解决的是0-1的问题，后续duv干式光刻机到duv浸润式光刻机，那是1-9的问题。

尽管1-9也非常困难，但是有了这个1打基础，那么后续搞起来才有目标，有头绪啊！

有了这个duv干式光刻机后，徐申学也就能够真正畅想数年后把duv浸入式光刻机弄出来了。

只要把duv浸润式光刻机给弄出来，再配搭其他核心设备以及耗材，未来很多年都不用担心被制裁封锁了。

因为duv浸润式光刻机，使用多重曝光技术，是可以做出来等效7纳米的芯片的。

甚至极端一些，都能做到等效5纳米的芯片，只不过成本会很高而已……

全面可自主的等效7纳米芯片工艺技术，这对智云，对华夏的意义极其重大。

而等效5纳米工艺的意义更大，哪怕它的生产成本比用euv光刻机生产等效五纳米工艺的芯片高得多，甚至通常情况下都不具备商用价值！

但是，其实际意义依旧重大，因为这解决的是有无问题！

人家的euv光刻机制造的五纳米，甚至三纳米，二纳米的芯片，尤其ai芯片那是各种好，问题是你买不到啊……

这个时候，自家如果有等效五纳米工艺的芯片，尤其是ai芯片，也能勉强顶上去，性能差一些总比没有强！