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经过一年的攻坚克难，设备部研发人员终於成功研製出duv光刻机。

破晓a220光刻机性能虽优，但对於28纳米及以上的成熟工艺製程而言，显然duv光刻机更具性价比。

一台通体银白的精密设备静静矗立在车间中央，线条流畅利落，无多余装饰，仅在机身关键部位鐫刻著细密的接口与参数標识，运转时发出低沉均匀的嗡鸣声。

它比破晓a220矮了近一米，宽度却多出一倍。

「名字想好了吗？」

陈延森转身问道。

「还没定，等著您来决策。」

林南笑著回应。

他既是技术人员，也是管理核心，虽不屑於阿諛奉承，但基本的处事觉悟还是有的。

「wph数值是多少？」陈延森又问。

「大约在395至405之间，我认为，它应该是目前全球最快的光刻机。」

林南立即回道。

wph全称为wafersperhour，即每小时可处理的晶圆数量。

这一数值越高，產能就越高，单枚晶片的成本也就越低。

星源科技之所以能在高端晶片代工领域轻鬆站稳脚跟，甚至將台积电打得溃不成军，靠的不正是破晓a220的超强生產效率吗？

同一款晶片，星源科技的成本更低、利润更高，自然拥有更大的议价空间和谈判优势。

而每小时能曝光400片以上12寸晶圆，相当於9秒就能產出一片布满晶片的硅片，堪称工业界的绝对暴力美学。

「就叫破晓d400吧！老梁，定价定在多少？」

陈延森看向梁劲松问道。

「5000万美幣，保养和售后的费用另算，与阿斯麦的nxt1970ci价格持平，但生產效率高出30。」

梁劲松答道。

此外，nxt1970ci的单次曝光最小半节距为40纳米，而破晓d400则达到28纳米。

这意味著，破晓d400不仅在產能上碾压阿斯麦的同价位机型，在工艺精度上更是实现了代际突破，能完美覆盖28纳米至90纳米之间的所有主流製程需求。

对於那些无需euv光刻机的中低端晶片厂商而言，这台机器无疑是量身定製的性价比之王。

通过多重曝光技术，甚至可利用破晓d400生產16纳米、20纳米乃至14纳米的晶片，只是